说明:武汉博涵科技光电子信息产业基地7#~12#、4#办公楼建筑施工图,其中7~12#地上6层,建筑高22.05m,框架结构,独立基础;4#办公楼地上9层、建筑高34.35m,建筑总面积为7532.7平方米;图纸含两栋办公楼的平、立、剖面图,楼梯、卫生间、墙身大样,门窗大样及门窗表,总平面图。
建筑面积:20664.08,7532.7㎡建筑高度:22.05,34.35m地上层数:6,9层地下层数:高度类别:中高层图纸深度:施工项目地址:湖北省设计时间:2013效果图:无建筑风格:现代